15-я Международная выставка вакуумного и криогенного оборудования
14 – 16 апреля 2020 Россия, Москва, КВЦ «Сокольники», павильон 4

Программа конференции на 16 апреля

16 апреля 2019

Открытие выставки и конференции. Приветственные слова

Спикер уточняется
11:30 – 13:00

ПЛЕНАРНАЯ СЕССИЯ: Развитие научно-производственной кооперации и инфраструктуры для разработки инновационных технологий

Подробнее ↓
Вопросы к обсуждению:
  • Развитие  научно-технического, инновационного и промышленного потенциала
  • Меры государственной поддержки инновационных  промышленных технологий и производства высокотехнологичной продукции
  • Программы инвестиционной поддержки инновационных разработок
  • Перспективы  производства вакуумного и криогенного оборудования в России


О перспективных мерах государственной поддержки электронного машиностроения в России
Алексей Николаевич  Алексеев, к.ф.-м.н. Генеральный директор ЗАО «НТО»
 
Проблемы метрологии для вакуумной техники и оборудования
Дмитрий Владимирович Гоголев, Начальник управления метрологии Росстандарт
 
Инновационное развитие Российского центра вакуумного машиностроения
Евгений Николаевич Капустин. Генеральный директор, АО «Вакууммаш»
 
Центры коллективного пользования и их научно-производственный потенциал для решения инновационных задач отечественной микро- и наноэлектроники
Демин Глеб Дмитриевич, начальник Научно-исследовательской лаборатории «Исследование изделий нано- и микросистемной техники» Центра коллективного пользования "Микросистемная техника и электронная компонентная база"
 
Дедкова Анна Александровна, ведущий инженер Центра коллективного пользования "Микросистемная техника и электронная компонентная база"

СЕССИЯ НАУКИ. Начало

Спикер уточняется

Секция 1. Вакуумные технологии и оборудование

Спикер уточняется
подробнее ↓
  1. Инновационное развитие Российского центра вакуумного машиностроения. Е.Н.Капустин. Казань, АО «Вакууммаш», г. Казань
  2. Перспективы развития отечественных «безмасляных» средств создания вакуума. А.В. Бурмистров, *Е.Н.Капустин, С.И.Саликеев, *А.А.Исаев. Казанский национальный исследовательский технологический университет, г. Казань, *АО «Вакууммаш», г. Казань.
  3. Низкотемпературный синтез вертикально ориентированного графена, легированного азотом или кремнием, произведенного с помощью ICPCVD технологии. П.А.Розель, В.Я.Ширипов, Е.А.Хохлов. ООО ИЗОВАК Технологии, г.Минск, Беларусь.
  4. Современные инжиниринговые инструменты разработки новых образцов вакуумного технологического оборудования. Я.О.Желонкин, А.А.Бикташев, С.И.Саликеев, И.А.Сунгатуллин, О.В.Желонкин. ООО «ФЕРРИ ВАТТ», г. Казань.
  5. Ионно-плазменное оборудование для глубокого анизотропного травления кремния в технологиях формирования глубоких отверстий. В.М.Долгополов, В.В.Одиноков, П.А.Иракин, В.М.Варакин, А.В.Шубников, *Н.Г.Мицын. ОАО НИИТМ, Москва, Зеленоград.         *АО «НИИМЭ», Москва, Зеленоград.
  6. Разработка и производство современной установки для высокопроизводительного нанесения многослойной металлизации методом магнетронного распыления. А.Х.Хисамов, Р.Л.Рябцев, А.Г.Новиков, *М.В.Назаренко, **В.В.Одиноков. ООО “Стратнанотек Инвест”, г. Минск, Беларусь. *ООО “РМТ”, г.Москва. **ОАО НИИТМ, г. Москва, Зеленоград.
  7. Результаты применения установки с цилиндрическими катодами для высокопроизводительного нанесения многослойной металлизации толщиной более 20 мкм. М.В.Назаренко, *А.Г.Новиков, *А.Х.Хисамов. ООО “РМТ”, г. Москва. *ООО “Стратнанотек Инвест”, г. Минск, Беларусь.
  8. Исследование энергетических затрат в механическом вакуумном насосе. Н.К.Никулин, Е.В.Свичкарь, В.С.Ключаров.  МГТУ им. Баумана, г. Москва.
  9. Модульная вакуумно-термическая установка для пиролитического разложения этанола. С.П.Бычков, Е.А.Зикий, О.В.Огнев, Ю.В.Панфилов, *Ю.М.Сарапулов, *М.С.Сиротский ФГБОУВО МГТУ им Н.Э. Баумана, г. Москва.  *АО НПО «Спецэлектромеханика», г. Брянск.
  10. Металло-керамическая рентгеновская трубка нового поколения. Е.Д.Суманова, М.В.Гарькуша, Е.П.Шешин. ФГАОУВО «Московский физико-технический институт (НИУ)», г. Долгопрудный. Московская обл.
  11. Моделирование нестационарных течений многокомпонентного газа в газоразделительных устройствах с движущимися элементами. А.Н.Якунчиков, В.В.Косьянчук. Механико-математический ф-т МГУ им. М.В.Ломоносова, г.Москва, Институт механики МГУ им. М.В.Ломоносова, г.Москва, Институт машиноведения им. А.А.Благонравова РАН, г.Москва,
  12. Зависимость параметров импульсного блока питания от коэффициента заполнения импульсного сигнала и частоты импульсов. И.В.Михайлова,М.Ю.Акишин, Д.Д.Васильев, К.М.Моисеев. МГТУ им. Н.Э. Баумана, г.Москва.
  13. Формирование вакуумной плотности в сверхвысоковакуумных прогреваемых разъёмных соединениях. А.Е.Вязовецкова, В.В.Вязовецков. РНТВО им. академика С.А. Векшинского, г.Москва.  
  14. Оценка влияния мощности разряда магнетронной распылительной системы на энергетическую эффективность распыления. В.В.Тлявлин, П.В.Петухов, Зау Пхо Аунг, Л.Л.Колесник. МГТУ им. Н.Э.Баумана, г.Москва.
  15. Состояние работ по созданию МЭМС вакуумметров. Р.Э.Кувандыков, Р.А.Тетерук, А.А.Чернышенко. ФГУП «ВНИИМ им. Д.И.Менделеева», г.Санкт-Петербург.
  16. Геттерный модуль для понижения стартового вакуума запуска магниторазрядного насоса. А.С.Кривенко, *И.А.Азаров ООО "ЭПОС-Инжиниринг", *ООО «ИВР».

Секция 2. Новые технологии формирования тонких пленок. Методики и исследования. Технологическое оборудование

Спикер уточняется
подробнее ↓
  1. Технология формирования рентгеновских наноразмерных малорасходящихся пучков. *В.К.Егоров, *,**,***Е.В.Егоров, **М.С.Афанасьев. *Институт проблем технологии микроэлектроники РАН, Черноголовка, Московская. обл. **Институт Радиотехники и электроники им В.А. Котельникова РАН, г.Фрязино, Московская обл. ***Финансовый университет при правительстве РФ, Москва.
  2. Возможности применения неравновесной низкотемпературной плазмы, генерируемой при пониженном давлении, для переработки природных полимеров. Хтет Вэй Ян Чжо, Кхин Маунг Хтау, Зау Йе Мьинт, Хтет Ко Ко Зау, Т.М.Васильева. Московский физико-технический институт, г. Долгопрудный, Московская обл.  
  3. Генерация электронно-пучковой плазмы вблизи поверхности диэлектриков. Йе  Хлаинг Тун, Аунг Чжо У, М.Н.Васильев. Московский физико-технический  институт, г. Долгопрудный, Московская обл.
  4. Ионный обрабатывающий центр для изготовления плёночных элементов наноградиентной оптики и метаматериалов. *,***О.Д.Вольпян, **А.И.Кузьмичёв, ***Д.В.Чуриков. *ООО “НПП Фотрон-Авто”, г.Москва. **НТУУ «Киевский политехнический институт имени Игоря Сикорского», Киев, Украина. ***ФГБУН «Научно-технологический центр уникального приборостроения РАН», г.Москва.
  5. Разработка технологических основ формирования тонких пленок оксида цинка с заданными значениями диэлектрической проницаемости. Н.И.Сушенцов, С.А.Степанов, Д.Е.Шашин. Поволжский государственный технологический университет, г.Йошкар-Ола.
  6. Распыление титана, нитрида титана, молибдена и меди ионами азота и кислорода. Д.В.Духопельников, В.А.Рязанов, С.О.Шилов, Д.К.Алексеев.  МГТУ им. Н.Э. Баумана, г.Москва.
  7. Определение профиля эрозии поверхности под действием ионной бомбардировки. Е.В.Воробьев, Д.В.Духопельников,С.О.Шилов. МГТУ им. Н.Э. Баумана, г.Москва.
  8. Экспериментальная проверка возможности испарения капельной фазы вакуумно-дугового разряда при её движении в плазме. Д.В.Духопельников, Д.В.Кириллов. МГТУ им. Н.Э.Баумана, г.Москва.
  9. Исследование морфологии эпитаксиальных пленок (SiC)1-x(AlN)x, полученных методом магнетронного распыления. Г.К.Сафаралиев,  Г.Д.Кардашова. Дагестанский государственный университет, г.Махачкала.
  10. Материалы на основе твердых растворов карбида кремния с нитридом алюминия для экстремальной электроники: монокристаллы, эпитаксиальные пленки. Г.Д.Кардашова,  Г.К.Сафаралиев. Дагестанский государственный университет, г.Махачкала.  
  11. Дуальная магнетронная распылительная система с пакетно-импульсным модулированным биполярным напряжением питания. В.О.Оскирко, В.А.Семенов, А.П.Павлов, А.Н.Захаров. ИСЭ СО РАН, г.Томск.
  12. Импульсный источник электропитания для плазменного азотирования в тлеющем разряде. В.О.Оскирко, И.М.Гончаренко, А.П.Павлов, А.С.Гренадеров. ИСЭ СО РАН, г.Томск. ООО «Прикладная Электроника», г.Томск.
  13. Реактивное магнетронное распыление цинковой мишени в парах воды.  А.Х.Абдуев, А.К.Ахмедов, А.Ш.Асваров, Р.М.Эмиров. Институт физики  Дагестанского научного центра РАН, г.Махачкала.
  14. Исследование возможностей акустического мониторинга процессов модифицирования поверхности в вакуумных камерах. С.В.Федоров, М.П.Козочкин, Тхеин Хту Маунг, М.А.Зыкова.  ФГБОУ ВО «МГТУ «СТАНКИН», г.Москва.