Компания «ЭПОС-Инжиниринг» представит лабораторную установку ионного травления

участник в фокусе

Продолжая развитие собственной линейки настольных исследовательских установок, компания «ЭПОС-Инжиниринг» представляет лабораторную установку ионного травления EPOS-ION-ETCH, предназначенную для ионно-лучевого травления металлических материалов в среде инертных и реактивных газов в вакууме с целью получения образцов для исследования поверхностного рельефа.

Компания «ЭПОС-Инжиниринг» представит лабораторную установку ионного травления
В этой установке образцы диаметром до 20 мм нагреваются до 50 - 900 оС и наклоняются относительно пучка на 0-45о с высокой точностью.
Новыи-проект-(1).jpg Отличительной особенностью установки является ионный источник типа Бернаса с электростатической системой формирования пучка, со специально разработанной системой питания. Разработаны варианты на энергии 10 кэВ и 25 кэВ, ток до 7мА.

 
Обсудить все возможности использования установки EPOS- ION-ETCH можно во время работы выставки, на стенде компании А127.

Посетите выставку VacuumTechExpo 2024 с 9 по 11 апреля в ЦВК «Экспоцентр». На выставке будет представлен широкий ассортимент вакуумного и криогенного оборудования.

Получите электронный билет
Присоединяйтесь к нашему списку подписчиков, чтобы получать последние новости выставки и специальные предложения.