24 апреля 2018 новость Посетите мероприятия деловой программы VacuumTechExpo 24 апреля. 10.00 Вступительное слово Президента РНТВО им. академика С.А. Векшинского С.Б. Нестерова. Акционерному обществу «Вакууммаш» 75 лет. Очерки истории. Часть 1. Е.Н.Капустин. АО «Вакууммаш», Казань. 24 апреля. 10:30 Секция 1. Вакуумные технологии и оборудование Разработка «большого» отечественного безмасляного спирального вакуумного насоса с быстротой действия 60 м3/ч. А.В.Бурмистров, С.И.Саликеев, А.В.Тюрин, А.А.Райков, *Е.Н.Капустин. Казанский национальный исследовательский технологический университет, Казань, * АО «Вакууммаш», Казань. Группа установок для глубокого травления кремния, мелкощелевой изоляции, удаления фоторезиста и атомно-слоевого осаждения. В.В.Одиноков, В.М.Долгополов, П.А.Иракин, В.В.Панин. АО “НИИ точного машиностроения” Москва, Зеленоград. Обеспечение квалифицированного цикла активной пайки металлокерамических узлов твердыми припоями в инновационной высоковакуумной камерной электропечи модели снвэ-2.4.2/13-иоп-ниттин. В.М.Шулаев, Д.А.Оковитый, М.Б.Аскретков, *Ю.К.Грузевич, *Ю.Н.Гордиенко, *Л.М.Балясный, *Н.М.Недосека. ООО «НПП «НИТТИН», Белгород, *ОАО «НПО Геофизика-НВ», Москва. Перспективы совместной разработки вакуумного оборудования МГТУ им. Н.Э. Баумана и АО НПО «Спецэлектромеханика». С.П.Бычков, Л.Л.Колесник, Ю.В.Панфилов ,*Ю.М. Сарапулов, *М.С. Сиротский. ФГБОУ ВО МГТУ им Н.Э. Баумана, Москва, * АО НПО «Спецэлектромеханика», Брянск. Управление частотной характеристикой демпфера для активной виброизоляции на основе магнитореологических эластомеров. А.М.Базиненков, И.В.Макеев, А.П.Ротарь, Д.А.Иванова, В.П.Михайлов. Москва, ФГБОУ ВО МГТУ им. Н.Э.Баумана, Москва. Рентгеновская трубка для ионизации газов. Е.П. Шешин, ФГАОУ ВО «Московский физико-технический институт (государственный университет)», г. Долгопрудный. Стенд для исследования процессов, происходящих при отказах вакуумных механизмов. Р. О.Емельяненко, Е. Р. Тютюкин, Е.А. Деулин. ФГБОУ ВО МГТУ им.Н.Э. Баумана, Москва. Результаты исследований газовыделений из слюды. С.А.Бушин. Москва, ФГУП «Всероссийский научно-исследовательский институт автоматики им. Н.Л. Духова», Москва. Разработка конструкций сверхвысоковакуумных прогреваемых крупногабаритных коммутационных устройств повышенной надёжности герметизации. А.Е.Вязовецкова, В.В.Вязовецков. НИЦ «Курчатовский институт», Москва. Моделирование течения газа в проточной части комбинированного турбомолекулярного насоса с дисковой ступенью. Ю.А.Шостак, Н.К.Никулин. ФГБОУ ВО МГТУ им. Н. Э. Баумана, Москва. Моделирование течения многокомпонентного газа через систему нитей различной температуры. А.Н. Якунчиков, В.В. Косьянчук. Механико-математический ф-т МГУ им. М.В.Ломоносова, Москва, Институт механики МГУ им. М.В.Ломоносова, Москва, Институт машиноведения им. А.А. Благонравова РАН, Москва. Моделирование течения разреженного газа в устройствах с быстро осциллирующими элементами. В.В. Косьянчук, А.Н. Якунчиков. Механико-математический ф-т МГУ им. М.В.Ломоносова, Москва, Институт механики МГУ им. М.В.Ломоносова, Москва, Институт машиноведения им. А.А. Благонравова РАН, Москва. 24 апреля. 14:00 Секция 2. Новые технологии формирования тонких пленок. Методики и исследования. Технологическое оборудование. О возможностях новой технологии минеральных покрытий для повышения износостойкости металлической поверхности при создании деталей вакуумной техники. А.В.Сказочкин,* Г.Г.Бондаренко,** С.В.Кислов. Калужский филиал Российской академии народного хозяйства и государственной службы при Президенте Российской Федерации, Калуга, *МИЭМ НИУ «Высшая школа экономики», Москва, **ООО «Научно-производственный центр «Технологии минеральных покрытий», Москва. Изучение эпитаксиального соответствия карбида кремния на кремнии. В.К.Егоров, *Е.В.Егоров, **С.А.Кукушкин, **А.В.Осипов. ИПТМ РАН, Черноголовка, Московская область, *РУДН, Москва, **ИПМ РАН, Санкт-Петербург. Разработка инверсных интегрированных покрытий с использованием фотонно-кристаллической структуры. Е.Н.Галаганова, Е.В.Панфилова. ФГБОУ ВО МГТУ им. Н.Э. Баумана, Москва. Исследование технологических и конструктивных особенностей мемристоров, изготовленных магнетронным распылением. А.В.Мороз, Н.И.Сушенцов. Поволжский государственный технологический университет, Йошкар-Ола. Исследование оптических характеристик тонких пленок диоксида титана, полученных методом магнетронного распыления. Н.И. Сушенцов, С.А Степанов, Д.Е. Шашин. Поволжский государственный технологический университет, г.Йошкар-Ола. Синтез и структура нанопорошков, керамики и тонких слоев на основе системы ZnO-C. А.Х.Абдуев, А.К.Ахмедов, А.Ш.Асваров, *К.Ш.Рабаданов. Институт физики Дагестанского научного центра РАН, Махачкала, *Аналитический центр коллективного пользования ДНЦ РАН, Махачкала. Формирование структурSiC/Si методом замещения атомов и их использование для роста III-нитридов. А.В.Редьков, А.В.Осипов, С.А.Кукушкин. ИПМаш РАН, Санкт-Петербург. Исследование влияния толщины тонкопленочного слоя MoS2 на износостойкость покрытия системы TiC-MoS2. В.В.Петров, А.И.Беликов, Е.А.Ивченко. ФГБОУ ВО МГТУ им. Н.Э.Баумана, Москва. Источник электронов для установки исследования вторичной эмиссии. А.Н. Козлов. Москва. Системы питания высокомощных импульсных магнетронов распыления HIPIMS. В.С.Мачикин. ООО «ПЛАЗМА-ТЕХ». Москва. Оптическая спектроскопия полупроводниковых пленок MoS2. А.И.Беликов, Чжо Зин Пьо, А.И.Семочкин. ФГБОУ ВО МГТУ им. Н.Э.Баумана, Москва. Модернизация магнитной системы жидкофазного магнетрона для повышения мощности разряда. А.А.Храмова, А.Р.Матанин, Д.А.Полин, Д.Д.Васильев, К.М.Моисеев. ФГБОУ ВО МГТУ им. Н.Э.Баумана, Москва. Для бесплатного посещения выставки и мероприятий деловой программы получите ВАШ ЭЛЕКТРОННЫЙ БИЛЕТ >>